名 称：金 符 号：au 原子量：196.97 熔 点：1064.2℃ 沸 点：2808℃ 密 度：19.32g/cm3 高纯金：99.99%-99.999%，广泛应用于蒸发镀膜，磁控溅射等方面。主要有靶材，颗粒，丝状，片状等形态，并可提供残靶，余料回收业务。 高纯金 au 4n-5n 靶材 4n-5n 棒状 φ3*3mm 6*6mm 可定制 4n 丝状 φ0.01-5mm 3n5-4n 片状 0.03-10mm

深圳市中正冶金科技有限公司是一家集研究开发、生产、加工及销售于一体的高科技公司；通过真空熔炼、无污染熔炼、真空压力铸造、锻造、真空轧制变形及高真空高温蒸馏提纯等综合工艺，生产的产品包括单一金属靶材、合金靶材（二元合金、三元合金、四元合金及多元合金等）、高纯金属（高纯fe、高纯ti、高纯al、高纯cu、高纯sn、高纯ag等）、蒸发材料（fe、al、ni、cu、nb、ta、w、mo、hf、zr、zn、sn、mg、ag、co、ru等）、高纯稀土金属（镧la、ce、镨pr、钕nd、钐sm、铕eu、镱yb、铥tm、钆gd、铽tb、镝dy、钬ho、铒er、钪sc、钇y、镥lu）、稀贵金属、稀土靶材 1.pure?metal:? ti,?zr,?ta,?nb,?mo,?w,?ni,?cr,?al,?zn,?si,?cu,ito,azo.tzo,wc,nb2o5,tio2,?sio2?with?planar?and?rotary?type., ? 2.typical?alloy?target?: 1)?ti/al?alloy?target?(67:33,50:50at%) 2)?w/ti?alloy?target?(90:10wt%),? 3)?ni/v?alloy?target?(93:7,wt%) 4)?ni/cr?alloy?target??..